該項(xiàng)目開發(fā)的技術(shù)可廣泛應(yīng)用于微電子化工材料分離與純化，尤其是大規(guī)模集成電路（0.09～0.2μm技術(shù)）用超純電子化學(xué)品。超凈高純雙氧水作為電子工業(yè)硅片清洗劑、印刷電路板的刻蝕劑，是電子工業(yè)不可缺少的精細(xì)化學(xué)品。目前，國(guó)內(nèi)集成電路生產(chǎn)的電子級(jí)雙氧水無(wú)論質(zhì)量和數(shù)量都不能滿足電子工業(yè)的需要。

我公司是國(guó)內(nèi)一家采用石英玻璃材質(zhì)生產(chǎn)化學(xué)試劑、精細(xì)化學(xué)品精餾裝置的高科技企業(yè)，經(jīng)過(guò)二十多年的生產(chǎn)實(shí)踐，開發(fā)、研制出二十多種產(chǎn)品、五十多種型號(hào)規(guī)格的超純電子化學(xué)品精餾裝置，其中雙氧水精餾裝置分別有50t/a、75t/a、100t/a、120t/a等規(guī)格，其產(chǎn)品質(zhì)量達(dá)到SEMIC12雙氧水的標(biāo)準(zhǔn)，金屬離子濃度≤0.1ppb，非金屬離子濃度≤100ppb，顆粒≥0.5μm 25Pcs/mL。技術(shù)水平達(dá)到了應(yīng)有的水平。

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